次世代の電子光学系を有する収差補正電子顕微鏡の開発 Aberration corrected microscopy with newly developed platform

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収録刊行物

  • 顕微鏡

    顕微鏡 41(1), 21-25, 2006-03-31

    日本顕微鏡学会

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

  • <no title>

    ROSE H.

    Optik 33, 1-24, 1971

    被引用文献1件

  • <no title>

    TIEMEIJER P. C.

    Inst. Phys. Conf. Ser. 161, 191-194, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    The Titan^<TM> platform on the basis of the TEAM project of the USA Department of Energy with the goal to arrive at 0.5 Angstrom resolution in TEM and STEM on a single system, in combination with a Cc corrector developed in co-operation with CEOS GmbH

    被引用文献1件

  • Elektronen Mikroskop.

    KNOLL M.

    Z. Physik. 78, 318-339, 1932

    DOI 被引用文献4件

  • <no title>

    SCHERZER O.

    Z. Phys. 101, 593-603, 1936

    DOI 被引用文献9件

  • <no title>

    HAIDER M.

    Nature 392, 768, 1998

    DOI 被引用文献18件

  • <no title>

    FREITAG B.

    Ultramicroscopy 102, 209-214, 2005

    DOI 被引用文献1件

  • Optimum focus for taking electron holograms

    LICHTE H.

    Ultramicroscopy 38, 13-22, 1991

    DOI 被引用文献5件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018131069
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11917781
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13490958
  • NDL 記事登録ID
    7910639
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-896
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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