誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したニッケル薄膜の基板バイアス電圧依存性 Dependence of Substrate DC Bias Voltage on Structural Properties of Nickel Thin Films Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement Assisted by Inductively Coupled Plasma

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著者

    • 竹迫 寿晃 TAKESAKO Kazuaki
    • 広島工業大学工学部電子・光システム工学科 Department of Electronics and Photonic Systems Engineering, Hiroshima Institute of Technology
    • 岡山 勇太 OKAYAMA Yuta
    • 広島工業大学工学部電子・光システム工学科 Department of Electronics and Photonic Systems Engineering, Hiroshima Institute of Technology
    • 川畑 敬志 KAWABATA Keishi
    • 広島工業大学工学部電子・光システム工学科 Department of Electronics and Photonic Systems Engineering, Hiroshima Institute of Technology

抄録

  The dependence of substrate dc bias voltage on structural properties of Ni thin films using magnetron sputtering with multipolar magnetic plasma confinement (MMPC) assisted by inductively coupled plasma (ICP) was investigated. When magnetron sputtering with MMPC assisted by ICP was applied, the current flowing into the substrate due to Ar<sup>+</sup> ions and sputtered Ni<sup>+</sup> ions was increased. Ni thin films were deposited due to the ions energy controlled by each substrate dc bias voltage from 0 V to -80 V. The Ni thin films were analyzed by X-ray diffraction (XRD) and a transmission electron microscope (TEM). It is shown that applying the substrate dc bias voltage results in a significant change of the relative intensity of the orientation of (111) plane and an increase in the grain size.<br>

収録刊行物

  • 真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN  

    真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 49(3), 156-158, 2006-03-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  8件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018133548
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    7931027
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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