ポリイミドフィルムへのＴａＡｌ‐Ｎ薄膜の形成～広領域真空センサ応用への可能性の検討～

• 岡野 夕紀子

  (株)岡野製作所

• 田尻 修一

  (株)岡野製作所

• 青園 隆司

  (株)岡野製作所

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 小川 倉一

  (財)大阪産業振興機構

• 美馬 宏司

  大阪市立大学

書誌事項

タイトル別名

• Deposition of TaAl-N Thin Film on the Polyimide Film-Discussion for the New Vacuum Sensor in a Wide Range-
• ポリイミドフィルムへのTaAl-N薄膜の形成--広領域真空センサ応用への可能性の検討
• ポリイミド フィルム エ ノ TaAl N ハクマク ノ ケイセイ コウリョウイキ シンクウ センサ オウヨウ エ ノ カノウセイ ノ ケントウ

抄録

  The temperature dependence of the electrical resistivity of TaAl-N thin film was investigated and the characteristics of the thin film was applied to measure a pressure over a wide range in vacuum. The thin films, having been prepared by reacted DC magnetron sputtering method and deposited on the polyimide sheet, have characteristics that make them suitable for using as the thermo-conductive vacuum sensor; a large effective sensing area, a small heat capacity, and a large temperature coefficient of the resistivity (TCR) compared to a metal wire. The thin films was found sensitive to pressure change in the range of 10^-4 to 10⁵ Pa.<br>

収録刊行物

• 真空

  真空 49 (3), 162-164, 2006

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390001204063593472
• NII論文ID: 10018133562
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.49.162
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 7931052
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7931052
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可