トリチオシアヌル酸高分子膜の光解重合とパターン形成 Pattern Formation of Trithiocyanuric Acid Polymer Film by Photo-depolymerization

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著者

    • 山田 勝実 YAMADA Katsumi
    • 東京工芸大学工学部光情報メディア工学科 Department of Photonic Information and Media Engineering, Tokyo Polytechnic University
    • 占部 茂治 URABE Shigeharu
    • 東京工芸大学工学部光情報メディア工学科 Department of Photonic Information and Media Engineering, Tokyo Polytechnic University

収録刊行物

  • 日本写真学会誌 = Journal of The Society of Photographic Science and Technology of Japan  

    日本写真学会誌 = Journal of The Society of Photographic Science and Technology of Japan 69(3), 205-207, 2006-06-25 

    日本写真学会

参考文献:  9件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018147012
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00191766
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03695662
  • NDL 記事登録ID
    8012110
  • NDL 雑誌分類
    ZP48(科学技術--印写工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-495
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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