酸化膜還元法による極薄エピタキシャルγ-Al_2O_3膜の作製とデバイス応用 Fabrication of epitaxial γ-Al_2O_3 thin-films on Si substrates and its device application

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著者

    • 岡田 貴行 OKADA Takayuki
    • 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 Electrical & Electronic Engineering, Toyohashi University of Technology
    • 伊藤 幹記 ITO Mikinori
    • 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 Electrical & Electronic Engineering, Toyohashi University of Technology
    • 澤田 和明 SAWADA Kazuaki
    • 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 Electrical & Electronic Engineering, Toyohashi University of Technology
    • 石田 誠 ISHIDA Makoto
    • 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 Electrical & Electronic Engineering, Toyohashi University of Technology

収録刊行物

  • 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス  

    電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 106(45), 15-20, 2006-05-11 

参考文献:  14件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018154559
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10012954
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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