非晶質Asマスクを用いたInの部分拡散によるGaInAs/GaAs構造の選択形成 Fabrication of patterned GaInAs/GaAs hetero-structure using amorphous arsenic mask

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料  

    電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料 106(46), 85-90, 2006-05-11 

参考文献:  8件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018154961
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10012932
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ