SNDMによる Flash Memory の蓄積電荷の視覚化 Visualization using scanning nonlinear dielectric microscopy of electrons and holes localized in the thin gate film of a metal-SiO_2-Si_3N_4-SiO_2 -semiconductor flash memory

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会  

    電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2006(1), 31-34, 2006-06-28 

参考文献:  8件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018156876
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10442556
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ