Preparation of Amorphous Fluorinated Carbon Film Using Low Global-Warming Potential Gas, C_4F_6, by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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収録刊行物

  • Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters  

    Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters 45(4), L151-L153, 2006-02-25 

参考文献:  25件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018158977
  • NII書誌ID(NCID)
    AA10650595
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    00214922
  • データ提供元
    CJP書誌 
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