Ferroelectricity Down to at Least 2 nm in Multiferroic BiFeO3 Epitaxial Thin Films

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • Bea H. Béa H.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Fusil S. Fusil S.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Bibes M.
    • Institut d'Electronique Fondamentale, Université Paris-Sud, 91405 Orsay, France
    • Sirena M.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Herranz G.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Jacquet E.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Contour J.-P.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France
    • Barthélémy A.
    • Unité Mixte de Physique CNRS-Thales, Route Départementale 128, 91767 Palaiseau, France

抄録

We report here on the preservation of ferroelectricity down to 2 nm in BiFeO3 ultrathin films. The electric polarization can be switched reversibly and is stable over several days. Our findings bring insight on the fundamental problem of ferroelectricity at low thickness and confirm the potential of BiFeO3 as a lead-free ferroelectric and multiferroic material for nanoscale devices.

収録刊行物

  • Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters  

    Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters 45(7), L187-L189, 2006-02-25 

    Japan Society of Applied Physics

参考文献:  21件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

被引用文献:  1件

被引用文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018159148
  • NII書誌ID(NCID)
    AA10650595
  • 本文言語コード
    EN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    0021-4922
  • NDL 記事登録ID
    7822599
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z54-J337
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  JSAP 
ページトップへ