Mesophase Control of Mesoporous Silica Thin Films by Vapor-phase Preparation

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抄録

Highly ordered mesoporous silica thin films with c2mm rectangular and R3m rhombohedral symmetry have been synthesized on a silicon substrate by a vapor-phase method using PEO106–PPO70–PEO106 triblock copolymer as a templating agent.日本化学会(http://www.jstage.jst.go.jp/browse/cl/-char/ja)

Highly ordered mesoporous silica thin films with <I>c</I>2<I>mm</I> rectangular and <I>R</I>3<I>m</I> rhombohedral symmetry have been synthesized on a silicon substrate by a vapor-phase method using PEO<SUB>106</SUB>–PPO<SUB>70</SUB>–PEO<SUB>106</SUB> triblock copolymer as a templating agent.

収録刊行物

  • Chemistry letters  

    Chemistry letters 35(8), 928-929, 2006-08-05 

    日本化学会

参考文献:  12件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018187948
  • NII書誌ID(NCID)
    AA00603318
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    03667022
  • データ提供元
    CJP書誌  IR  J-STAGE 
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