レーザープラズマEUV光源用回転ドラム式固体Xeターゲットの高繰り返しレーザー照射条件下における安定性 The Stability of a Rotating-Drum Solid-Xe Target Subjected to High-Repetition Rate Laser Irradiation for Laser-Plasma EUV Generation

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著者

    • 井上 隆博 INOUE Takahiro
    • 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
    • 天野 壯 AMANO Sho
    • 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo

抄録

The stability of a continuously growing solid-Xe target (thickness 500 Em) on a rotating drum (diameter 17 cm, rotation speed 1000 rpm and up-down length 3 cm) chilled by liquid-N<SUB>2</SUB> is investigated. The thermal load and the propagation process of a laser-induced shockwave in a solid-Xe target irradiated at a high-repetition rate and a high laser power are calculated theoretically. The thermal load is calculated to be approximately 0.7 W/cm<SUP>2</SUP> for a pulse energy of 1 J, a repetition rate of 30 kHz and an average power of 30 kW. Under these conditions the solid-Xe target should be chilled to ≤ 84 K for it to attain thermal equilibrium. The target system has the ability to supply solid-Xe target sufficiently rapidly that foliation of the target due to an accumulation of shockwaves does not occur under these irradiation conditions, since the lifetimes of the shockwaves were estimated to be about 1 μs.

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 34(8), 570-574, 2006-08-15 

    The Laser Society of Japan

参考文献:  19件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018207906
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    8069002
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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