スピントンネル素子のAl薄膜における熱酸化の研究 Study of thermal oxidation on Al thin film of spin tunneling junctions

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著者

    • 椎木 一夫 SHIIKI Kazuo
    • 慶應義塾大学 理工学部 物理情報工学科 Department of Applied Physics and Physicoinformatics, Keio University

収録刊行物

  • 電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録  

    電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録 106(142), 41-46, 2006-06-29 

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018215602
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10013050
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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