先端CMOS向け High-k/ メタルゲートスタック技術 High-k/Metal Gate Stack for Advanced CMOS

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 106(138), 89-92, 2006-06-26 

参考文献:  13件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018216735
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    REV
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ