先端CMOS向け High-k/ メタルゲートスタック技術 High-k/Metal Gate Stack for Advanced CMOS

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  • 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 106(138), 89-92, 2006-06-26

参考文献:  13件中 1-13件 を表示

  • <no title>

    The International Technology Roadmap for Semiconductors, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    HOBBS C.

    VLSI Tech. Symposium, 2003, 2003

    被引用文献1件

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    SHIRAISHI K.

    VLSI Tech. Symposium, 2004, 2004

    被引用文献1件

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    TAVEL B.

    Tech. Digest of IEDM, 2001, 2001

    被引用文献1件

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    LAUWERS A.

    Tech. Digest of IEDM, 2005, 2005

    被引用文献1件

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    SAMAVEDAM S. B.

    Tech. Digest of IEDM, 2002, 2002

    被引用文献1件

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    ZHANG Z. B.

    VLSI Tech. Symposium, 2005, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    INUMIYA S.

    VLSI Tech. Symposium, 2003, 2003

    被引用文献1件

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    SEKINE K.

    Tech. Dig. IEDM, 2003, 2003

    被引用文献1件

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    TAMURA Y.

    VLSI Tech. Symposium, 2004, 2004

    被引用文献1件

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    MINEJI A.

    Tech. Dig. IEDM, 2004, 2004

    被引用文献1件

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    INUMIYA S.

    Ext. Abst. of SSDM, 2005, 2005

    被引用文献1件

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    INUMIYA S.

    Tech. Dig. IEDM, 2005, 2005

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018216735
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    REV
  • データ提供元
    CJP書誌 
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