VUVキュアーによるArFリソグラフィーパターンの改善 ArF Photo Resist Pattern Improvement by VUV Cure

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著者

    • 宮武 久和 MIYATAKE Hisakazu
    • シャープ株式会社 電子デバイス開発本部 Advanced Technology Planning (Tokyo), Electronic components, Sharp Corporation
    • 伊藤 隆司 ITO Takashi
    • 東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻 Department of Electronics Engineering Graduate School of Engineering, Tohoku University

収録刊行物

  • 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 106(138), 211-216, 2006-06-26 

参考文献:  12件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018216987
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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