ArF Photo Resist Pattern Improvement by VUV Cure

• 宮武 久和

• 伊藤 隆司

Bibliographic Information

Other Title

• VUVキュアーによるArFリソグラフィーパターンの改善
• AWAD2006
• AWAD2006

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (138), 211-216, 2006-07

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• ドライエッチング耐性
• メタクリレート
• アクリレート
• レジスト
• UVキュアー
• LER
• CD-SEM
• 線幅縮小
• dry etching resistance
• methacrylate
• acrylate
• UV cure
• Line width shrinkage

Details

• CRID: 1520009408121460736
• NII Article ID: 110004840462
• NII Article ID: 10018216987
• NII Article ID: 110004813226
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 8016855
• NDL BIB ID: 8016058
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8016855
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8016058
• Text Lang: en
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles