対向ターゲットマグネトロンスパッタ法を用いた大型超伝導薄膜に対する熱処理の効果

• 武蔵 慎吾

• 早坂 伊織

• 高橋 幸也

Bibliographic Information

Other Title

• タイコウ ターゲットマグネトロンスパッタホウ オ モチイタ オオガタ チョウデンドウ ハクマク ニ タイスル ネツ ショリ ノ コウカ

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (203), 57-62, 2006-08

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• the facing targets magnetron sputtering method
• the effect of heat treatment

Details

• CRID: 1520572358525892864
• NII Article ID: 110004823215
• NII Article ID: 10018233566
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 8048875
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8048875
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles