感光性ポリイミド・感光性ポリベンズオキサゾールの開発 Developments of Photosensitive Polyimides and Photosensitive Polybenzoxazoles

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著者

    • 福川 健一 FUKUKAWA Ken-ichi
    • 東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻 Department of Organic & Polymeric Materials, Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
    • 上田 充 UEDA Mitsuru
    • 東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻 Department of Organic & Polymeric Materials, Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology

抄録

感光性, 絶縁膜および保護膜の機能をもつ感光性ポリイミド, 感光性ポリベンズオキサゾールは半導体分野の配線部分の層間絶縁膜, 保護膜およびその形成プロセスを簡略化するための重要な役割を果たしている. これら耐熱性感光性ポリマーの最近の進歩について, 画像形成機構に着目して, ポジおよびネガ型感光性ポリイミド, ポジおよびネガ型感光性ポリベンズオキサゾールの順で紹介する. まず, 工業的に用いられている感光性ポリイミド, 感光性ポリベンズオキサゾールについて述べた後, これらの感光性ポリマーの抱える問題に対処するための最近の進歩, 次世代の感光性ポリマーに要求される諸特性, すなわち, 高感度化, 低誘電性, 低温環化などに対応した新規なレジスト構成および分子設計, さらにはプロセスの簡略化に対応した感光性ポリマー溶液の簡便な調整法の開発など多岐にわたる報告例を紹介する.

Photosensitive polyimides (PSPIs) and polybenzoxazoles (PSPBOs) have been attracting great attention as insulating materials or protecting packages in microelectronics industries because they can be directly patterned by the action of UV irradiation. The photolithographic method of PI and PBO is advantageous due to simplified process steps as well as their outstanding properties. This article reviews developments of PSPIs and PSPBOs produced by a lot of researchers up to date. After brief introductions are given on PI and PBO, a typical patterning process out of photosensitive polymers in respect of both negative- and positive-working is described, Next details on each resist system involving PSPI and PSPBO are reviewed. Especially, what and how to form the patterns under UV exposure and heat treatment is the core subject of this review article. Each of their chemical processes can be understood in various ways.

収録刊行物

  • 高分子論文集  

    高分子論文集 63(9), 561-576, 2006-09-25 

    The Society of Polymer Science, Japan

参考文献:  61件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018244218
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00085011
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03862186
  • NDL 記事登録ID
    8518623
  • NDL 雑誌分類
    ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-92
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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