プラズマCVDプロセスにおける微粒子の挙動と微粒子汚染制御手法 Particle Behavior and Control Method of Particulate Contamination in Plasma CVD Process

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著者

    • 林 豊 HAYASHI Yutaka
    • 広島大学大学院工学研究科 Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University
    • 島田 学 SHIMADA Manabu
    • 広島大学大学院工学研究科 Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University

抄録

The application of plasma processing technologies to the engineering and industrial fields is expanding. Fine particles suspended in plasma, often called plasma dust, are known to be a major factor of disturbing the manufacturing processes of electronic devices, etc. Therefore, studies on the formation and behavior of fine particles in plasma are important from the viewpoint of developing methods to control plasma dust. In this article, recent studies are introduced on the observation and discussion for dust in a plasma CVD reactor using a particle visualization technique based on laser light scattering, and on the methods for suppressing particulate contamination by plasma dust.

収録刊行物

  • エアロゾル研究 = Journal of aerosol research  

    エアロゾル研究 = Journal of aerosol research 21(3), 209-214, 2006-09-20 

    日本エアロゾル学会

参考文献:  28件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018250228
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10041511
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09122834
  • NDL 記事登録ID
    8516511
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-1062
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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