極端紫外光発生用高繰り返し固体レーザー装置の開発 Development of High-Peak and High-Average-Power LD Pumped Solid-State Laser System for EUV Generation

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抄録

We are developing a 5kW (5kHz, 1J, 1-10ns) solid state laser system for EUV lithography. The Laser system is constructed by the fiber oscillator, regenerative amplifier and three amplifier stages. The output power is achieved at 955W, 10kHz, 7ns. The main amplifier modules are pumped with high power density over 400 W/cm. The thermal lens effect is not sphere, and includes high order phase aberrations. The phase aberration disturbs the propagation of the laser light. In addition, the spectral shift of the fluorescence is caused by rising the temperature of the laser medium.

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 34(9), 628-632, 2006-09-15 

    The Laser Society of Japan

参考文献:  13件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018250434
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    8514978
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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