液晶および有機EL向け低温ポリシリコンプロセス用高出力グリーンレーザーおよびアニール光学系 High Power Green Laser and Annealing Optical System for the Low Temperature Polycrystalline Silicon Process for Liquid Crystal Displays and Organic Light Emitting Diode Displays

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抄録

Low temperature polycrystalline silicon (LTPS) thin film transistors are necessary for creating high performance liquid crystal displays and organic light emitting diode displays. Excimer lasers have been used as the laser source for this process. However, this method presents two problems: 1) daily maintenance, which includes exchanging the laser gas and cleaning the laser windows, and 2) the limited process window of the optimum laser energy density for obtaining maximum mobility. To overcome these problems, we applied a green laser (second harmonics of a Q-switched Nd: YAG laser) instead of an excimer laser. This paper describes the high power green laser for LTPS, the annealing optical system for green lasers, and the poly-Si crystallization by a green laser.

収録刊行物

  • レーザー研究  

    レーザー研究 34(10), 693-697, 2006-10-15 

    The Laser Society of Japan

参考文献:  15件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018312208
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    8546803
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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