SiGe/SiヘテロMOSFETにおけるヘテロ界面のホットキャリア局所劣化 Hot-Carrier-Degradation of Hetero-Interface in SiGe/Si-Hetero-MOSFETs

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会  

    電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2006(15), 1-6, 2006-10-03 

参考文献:  10件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018312310
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10442556
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ