Low Temperature Epitaxy of Fe_3Si/SiGe for Spintronics

• SADOH Taizoh

  Kyushu University

• UEDA Koji

  Kyushu University

• KUMANO Mamoru

  Kyushu University

• MIYAO Masanobu

  Kyushu University

Bibliographic Information

Other Title

• スピントロニクス用強磁性シリサイド(Fe_3Si)/SiGeの低温形成

Journal

• 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会

  電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2006 (15), 11-14, 2006-10-03

Keywords

• Ferromagnetic silicide
• Fe_3Si
• Molecular beam epitaxy

Details

• CRID: 1573950400123545344
• NII Article ID: 10018312331
• NII Book ID: AN10442556
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • CiNii Articles
  • KAKEN