HF酸処理SiGe(100)表面の初期酸化過程の観察

• 廣瀬 文彦

  山形大学工学部

• 永戸 雅也

  山形大学工学部

• 木下 友太

  山形大学工学部

書誌事項

タイトル別名

• Initial oxidation of HF-acid treated SiGe(100) surfaces

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会

  電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2006 (15), 35-38, 2006-10-03

キーワード

• SiGe
• 初期酸化
• SiGe(100)
• HF酸処理
• SR
• XPS
• MOS

詳細情報

• CRID: 1570572700403016576
• NII論文ID: 10018312369
• NII書誌ID: AN10442556
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles