Si基板上SiC極薄膜の低温形成とユビキタスデバイスへの応用

• 末光 眞希

  東北大学

• 今野 篤史

  東北大学

• 成田 克

  九州工業大学

• 伊藤 隆

  東北大学

• 安井 寛治

  長岡技術科学大学

• 中澤 日出樹

  弘前大学

• 遠藤 哲郎

  東北大学

書誌事項

タイトル別名

• Low-temperature formation of ultrathin SiC films on Si substrates and its application to ubiquitous devices

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会

  電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2006 (15), 45-48, 2006-10-03

キーワード

• ユビキタス社会
• ネットワーク
• 炭化ケイ素
• ヘテロエピタキシ
• 有機シラン
• ガスソースMBE
• SiC
• Si

詳細情報

• CRID: 1572261550263279616
• NII論文ID: 10018312393
• NII書誌ID: AN10442556
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles