対向拡散CVD法による水素選択透過シリカ膜開発 Development of Hydrogen Permselective Silica Membranes prepared by a Counter Diffusion Chemical Vapor Deposition Method

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著者

収録刊行物

  • セラミックス  

    セラミックス 41(11), 917-920, 2006-11-01 

    日本セラミックス協会

参考文献:  15件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018344418
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00131516
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    0009031X
  • NDL 記事登録ID
    8565964
  • NDL 雑誌分類
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL 請求記号
    Z17-206
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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