照射小麦粉に誘導される有機フリーラジカルの加熱時の挙動 Thermal behavior of organic free radicals of irradiated wheat flour

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抄録

Using electron spin resonance (ESR) spectroscopy, we revealed the thermal behavior of radicals as induced by irradiation on wheat flour. Upon irradiation and also baking, the organic free radical, <I>i.e</I>., the g=2.0 signal was detected. Organic free radical is increasing by radiation dose level. By heat treatment, the organic free radicals in irradiated wheat flour increased exponentially to heating duration. With baking, the organic free radicals increased. The yield of radicals from irradiation and baking was also same.

収録刊行物

  • 食品照射 = Food irradiation, Japan  

    食品照射 = Food irradiation, Japan 41(1), 18-21, 2006-09-30 

    日本食品照射研究協議会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018358075
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00117832
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03871975
  • NDL 記事登録ID
    8558792
  • NDL 雑誌分類
    ZP34(科学技術--食品工学・工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-640
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  IR  J-STAGE 
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