レーザー生成高輝度放射光源開発研究の現状とその展望 Present Status and Future Prospect of Highly Bright Radiation Sources by Laser-Produced Plasma

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

抄録

Properties of laser-produced plasmas (LPP) are described to generate intense radiation for various applications including extreme ultra-violet (EUV) light for next generation lithography. After an overview of LPP physics, state-of-the-art topics relevant to the 13.5 nm EUV source are described

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society

    電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A, A publication of Fundamentals and Materials Society 126(12), 1195-1198, 2006-12-01

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

  • <no title>

    TURCH I. C. E.

    X-rays from Laser Plasmas : Generations and Applications, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    PARK H. S.

    Phys. Plasmas. 13, 056309, 2006

    被引用文献1件

  • <no title>

    NISHIHARA K

    Proc. of Inertial Fusion Science and Applications 2003, Monterey, CA, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    BAR-SHALOM A.

    Phys. Rev. E 56, R70, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIMADA Y.

    Appl. Phys. Lett. 86, 051501, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    TAO Y.

    Appl. Phys. Lett. 87, 241502, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    TAO Y.

    Appl. Phys. Lett. 86(24), 01501, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    TANAKA

    Jpn. J. Appl. Phys. 43(04B), L585-L587, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    YAMAURA M.

    Appl. Phys, Lett. 86(18), 181107, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    RISCHEL C.

    Nature 390, 490, 1997

    被引用文献15件

  • <no title>

    CHIN A. H.

    Phys. Rev. Lett. 83, 336, 1999

    被引用文献2件

  • <no title>

    YAAKOBI B.

    Appl. Phys. Lett 43, 686, 1983

    被引用文献2件

  • <no title>

    NAGEL D. J.

    Appl. Opt. 23, 1429, 1984

    被引用文献2件

  • <no title>

    NISHIMURA H.

    Phys. Rev., A 43, 3073, 1991

    被引用文献1件

  • Limits on Silicon Nanoelectronics for Terascale Integration

    MEINDL J. D.

    Science 293, 2044-2049, 2001

    被引用文献4件

  • <no title>

    TAO Y.

    Rev. Sci. Instrum. 75(12), 5173, 2004

    DOI 被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018410706
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10136312
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03854205
  • NDL 記事登録ID
    8592731
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-793
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ