Y_2O_3-Ta_2O_5混合ドープZrO_2ゲート絶縁膜界面の高分解能観察 High-resolution TEM Analysis of ZrO_2 Gate Dielectrics Co-doped with Y_2O_3-Ta_2O_5

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収録刊行物

  • まてりあ : 日本金属学会会報

    まてりあ : 日本金属学会会報 45(12), 841, 2006-12-20

    公益社団法人 日本金属学会

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

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    KIGUCHI Takanori

    Key Engineering Materials 269, 237-240, 2004

    被引用文献1件

キーワード

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018421863
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10433227
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13402625
  • データ提供元
    CJP書誌  J-STAGE 
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