Ge濃度を制御したSi_<1-x>Ge_xの格子定数測定 Lattice Parameter Determination of a Composition Controlled Si_<1-x>Ge_x Layer

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収録刊行物

  • まてりあ : 日本金属学会会報  

    まてりあ : 日本金属学会会報 45(12), 887, 2006-12-20 

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018421990
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10433227
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13402625
  • データ提供元
    CJP書誌 
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