CLによるGaAsデバイス内の応力評価 The CL Observation of Patterned GaAs-wafer

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収録刊行物

  • まてりあ : 日本金属学会会報

    まてりあ : 日本金属学会会報 45(12), 900, 2006-12-20

    公益社団法人 日本金属学会

参考文献:  2件中 1-2件 を表示

  • <no title>

    PEZZOTTI G.

    JEOL News, E 38, 13-19, 2003

    被引用文献3件

  • <no title>

    YOSHIKAWA M.

    J. Appl. Phys. 84, 1693-1696, 1998

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018422025
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10433227
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13402625
  • データ提供元
    CJP書誌  J-STAGE 
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