CLによるGaAsデバイス内の応力評価

• 藪内 康文

  株式会社松下テクノリサーチ

• 細川 鉄平

  株式会社松下テクノリサーチ

書誌事項

タイトル別名

• The CL Observation of Patterned GaAs-wafe

収録刊行物

• まてりあ

  まてりあ 45 (12), 900-900, 2006

  公益社団法人 日本金属学会

キーワード

• cathodoluminesenee
• stress measurement

詳細情報

• CRID: 1390282679055430400
• NII論文ID: 10018422025
• NII書誌ID: AN10433227
• DOI: 10.2320/materia.45.900
• ISSN: 18845843
• ISSN: 13402625
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/materia1994/45/12/45_12_900/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles