遷移金属合金の反応性イオンエッチング Reactive Ion Etching of Transition-Metal Alloys

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著者

    • 秋永 広幸 AKINAGA Hiro
    • 産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門 Nanotechnology Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 高野 史好 TAKANO Fumiyoshi
    • 産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門 Nanotechnology Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 松本 茂野 [他] MATSUMOTO Shigeno
    • 大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻 Department of Precision Science & Technology and Applied Physics, Osaka University
    • DINO Wilson A. T.
    • 大阪大学ナノサイエンス・ナノテクノロジー研究推進機構 Center for the Promotion of Research on Nanoscience and Nanotechnology, Osaka University

抄録

  For production of advanced spin-electronic devices, such as a magnetic random access memory with the higher-density memory cell, a reactive ion etching (RIE) process of transition metal alloys is the indispensable component of development, while no transition-metal compounds with the relatively high vapor pressure have been founded so far. Here, we show the RIE process of a NiFe thin film by using CH<sub>4</sub>:O<sub>2</sub>:NH<sub>3</sub> discharge. The RIE process was designed by <i>ab initio</i> calculations, and the present result is the first successful demonstration of the chemical effect in the RIE process for transition-metal alloys. The relative etching ratio of NiFe against Ti as the metal mask was decreased by substituting CH<sub>4</sub> with CHF<sub>3</sub>.<br>

収録刊行物

  • 真空  

    真空 49(12), 716-721, 2006-12-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  18件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018457535
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    8624067
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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