遷移金属合金の反応性イオンエッチング Reactive Ion Etching of Transition-Metal Alloys

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 秋永 広幸 AKINAGA Hiro
    • 産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門 Nanotechnology Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 高野 史好 TAKANO Fumiyoshi
    • 産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門 Nanotechnology Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 松本 茂野 [他] MATSUMOTO Shigeno
    • 大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻 Department of Precision Science & Technology and Applied Physics, Osaka University
    • DINO Wilson A. T.
    • 大阪大学ナノサイエンス・ナノテクノロジー研究推進機構 Center for the Promotion of Research on Nanoscience and Nanotechnology, Osaka University

抄録

  For production of advanced spin-electronic devices, such as a magnetic random access memory with the higher-density memory cell, a reactive ion etching (RIE) process of transition metal alloys is the indispensable component of development, while no transition-metal compounds with the relatively high vapor pressure have been founded so far. Here, we show the RIE process of a NiFe thin film by using CH<sub>4</sub>:O<sub>2</sub>:NH<sub>3</sub> discharge. The RIE process was designed by <i>ab initio</i> calculations, and the present result is the first successful demonstration of the chemical effect in the RIE process for transition-metal alloys. The relative etching ratio of NiFe against Ti as the metal mask was decreased by substituting CH<sub>4</sub> with CHF<sub>3</sub>.<br>

収録刊行物

  • 真空

    真空 49(12), 716-721, 2006-12-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  18件中 1-18件 を表示

  • <no title>

    徳山巍編著

    半導体ドライエッチング技術

    被引用文献1件

  • <no title>

    麻蒔立男

    超微細加工の基礎

    被引用文献1件

  • <no title>

    http://www.seed-nt.jp/

    被引用文献1件

  • <no title>

    http://www.toshiba.co.jp/about/press/2006_02/pr_j0702.htm http://www.nec.co.jp/press/ja/0602/0702.html

    被引用文献1件

  • <no title>

    http://storage-system.fujitsu.com/jp/term/beginner/hard/disk/

    被引用文献1件

  • 国際化学物質安全カード

    http://www.nihs.go.jp/ICSC/

    被引用文献1件

  • <no title>

    松浦正道

    微細加工技術 : スピンエレクトロニクスの基礎と最前線, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    小風豊

    信学技報, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    ICHIHARA K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 4874, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAGAHARA K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 42, L499, 2003

    被引用文献1件

  • <no title>

    KUBOTA T.

    Appl. Phys. Lett. 84, 1555, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    KUBOTA H.

    J. Magn. Magn. Mater. 272-276, e1421, 2004

    被引用文献1件

  • <no title>

    http://www.mizuho-ir.co.jp/science/platan/surf.html

    被引用文献1件

  • <no title>

    WATANABE S.

    Jpn. J. Appl. Phys. 44, 893, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    WATANABE S.

    50th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials, San Jose, CA, USA, Oct. 30-Nov. 3, 2005, 2005

    被引用文献1件

  • <no title>

    KANAZAWA T.

    Proc. of the 6th International Conference on Reactive Plasma and 23rd Symposium on Plasma Processing (ICRP-6/SPP-23), 2006, 2006

    被引用文献1件

  • <no title>

    JUNG K. B.

    Appl. Surf. Sci. 138-139, 111, 1999

    被引用文献3件

  • <no title>

    MATSUI N.

    Vacuum 66, 479, 2002

    被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018457535
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    8624067
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ