次世代3次元X線リソグラフィーの提案と高輝度液晶バックライトユニット導光板への応用 Proposal of a Next Generation 3 Dimensional X-ray Lithography and Its Application to Fabrication of High Luminescence Optical Waveguide for Liquid Crystal Back Light Unit

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抄録

We have developed a new 3D x-ray lithography system for LIGA processing using synchrotron radiation at the NewSUBARU facility of the University of Hyogo. The x-ray lithography system can utilize two different energy regions; one is a high-energy region from 3 keV to 10 keV, and the other is a low-energy region from 0.1 to 2 keV. Each energy region can be selected in accordance with the size and shape of the desired microstructures. It is demonstrated that large-area high luminescence 7 inch optical waveguide for the liquid crystal back light unit was successfully fabricated using this x-ray lithography method.

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. C, 電子・情報・システム部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. C, A publication of Electronics, Information and System Society  

    電気学会論文誌. C, 電子・情報・システム部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. C, A publication of Electronics, Information and System Society 127(2), 185-191, 2007-02-01 

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  4件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018480479
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10065950
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03854221
  • NDL 記事登録ID
    8668375
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-795
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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