質量分離フルオロカーボンイオンビームによるシリコン酸化膜エッチング表面反応 Study of the Etching Reactions on SiO_2 Caused by CF^+_x (x=1,2,3) Ion Irradiation

この論文をさがす

著者

    • 唐橋 一浩 KARAHASHI Kazuhiro
    • 大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター Center for Atomic and Molecular Technologies, Graduate School of Engineering, Osaka University

収録刊行物

  • 表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan  

    表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan 28(2), 60-66, 2007-02-10 

    日本表面科学会

参考文献:  15件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018498309
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    8687383
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ