質量分離フルオロカーボンイオンビームによるシリコン酸化膜エッチング表面反応

• 唐橋 一浩

Bibliographic Information

Other Title

• シツリョウ ブンリ フルオロカーボンイオンビーム ニ ヨル シリコン サンカ マク エッチング ヒョウメン ハンノウ
• 特集:半導体プロセスの評価
• トクシュウ ハンドウタイ プロセス ノ ヒョウカ

Journal

• 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編

  表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 28 (2), 60-66, 2007-02

  東京 : 日本表面科学会

Details

• CRID: 1523669555081593856
• NII Article ID: 10018498309
• NII Book ID: AN00334149
• ISSN: 03885321
• NDL BIB ID: 8687383
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/8687383
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8687383
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles