ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製 Three-dimensional fabrication of photoresist using holographic two-photon microfabrication

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著者

    • 高橋 秀知 TAKAHASHI Hidetomo
    • 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima
    • 西谷 麻希 NISHITANI Maki
    • 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima
    • 早崎 芳夫 HAYASAKI Yoshio
    • 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima

収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. : The Papers of Technical Meeting on Electromagnetic Theory, IEE Japan. EMT, 電磁界理論研究会  

    電気学会研究会資料. : The Papers of Technical Meeting on Electromagnetic Theory, IEE Japan. EMT, 電磁界理論研究会 2007(1), 19-24, 2007-01-29 

参考文献:  21件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018502040
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00346578
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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