Formation of Intrinsic Point Defects in Fluorine-doped Synthetic SiO_2 Glass by ^<60>Co γ-ray Irradiation

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著者

    • KAJIHARA Koichi
    • Transparent Electro-Active Materials Project, ERATO-SORST, Japan Science and Technology Agency
    • HIRANO Masahiro
    • Transparent Electro-Active Materials Project, ERATO-SORST, Japan Science and Technology Agency
    • SKUJA Linards
    • Transparent Electro-Active Materials Project, ERATO-SORST, Japan Science and Technology Agency
    • HOSONO Hideo
    • Transparent Electro-Active Materials Project, ERATO-SORST, Japan Science and Technology Agency

収録刊行物

  • Chemistry letters  

    Chemistry letters 36(2), 266-267, 2007-02-05 

参考文献:  20件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018522627
  • NII書誌ID(NCID)
    AA00603318
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    03667022
  • データ提供元
    CJP書誌 
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