「スパッタリング技術の進展と今後への期待」小特集号に寄せて

  • 草野 英二
    金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター

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収録刊行物

  • 真空

    真空 50 (1), 2-, 2007

    一般社団法人 日本真空学会

被引用文献 (1)*注記

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282679044240384
  • NII論文ID
    10018546545
  • NII書誌ID
    AN00119871
  • DOI
    10.3131/jvsj.50.2
  • ISSN
    18809413
    05598516
  • データソース種別
    • JaLC
    • Crossref
    • CiNii Articles

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