スパッタリング製膜プロセスの研究における最近の展開

• 中野 武雄

  成蹊大学理工学部

書誌事項

タイトル別名

• Recent Progress in Researches on Sputter Deposition Process
• スパッタリングセイ マク プロセス ノ ケンキュウ ニ オケル サイキン ノ テンカイ

収録刊行物

• 真空

  真空 50 (1), 3-8, 2007

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Electrical and Electronic Engineering
• Surfaces, Coatings and Films
• Condensed Matter Physics

詳細情報

• CRID: 1390282679044236544
• NII論文ID: 10018546546
• NII書誌ID: AN00119871
• DOI: 10.3131/jvsj.50.3
• ISSN: 18809413
• ISSN: 05598516
• NDL書誌ID: 8675392
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8675392
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj/50/1/50_1_3/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles