スパッタリング製膜プロセスの研究における最近の展開 Recent Progress in Researches on Sputter Deposition Process

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  • 真空

    真空 50(1), 3-8, 2007-01-20

    一般社団法人 日本真空学会

参考文献:  55件中 1-55件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018546546
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    8675392
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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