スパッタリング成膜における薄膜構造制御 Modification of Film Structure in Sputtering Process

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著者

    • 草野 英二 KUSANO Eiji
    • 金沢工業大学高度材料科学研究開発センター Advanced Materials Science R&D Center, Kanazawa Institute of Technology

収録刊行物

  • 真空  

    真空 50(1), 15-21, 2007-01-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  41件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018546611
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    8675408
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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