機能性薄膜作製のためのスパッタリングターゲット : 技術課題と今後への指針 Sputtering Target for Information Network Devices : Present and Future

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著者

    • 高橋 研 TAKAHASHI Migaku
    • 東北大学未来科学技術共同研究センター New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University
    • 斉藤 伸 SAITO Shin
    • 東北大学大学院工学研究科電子工学専攻 Dept. of Electronic Engng., Grad. School of Engng., Tohoku University

収録刊行物

  • 真空

    真空 50(1), 22-27, 2007-01-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  12件中 1-12件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018546653
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    8675421
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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