多元系シリサイドの新展開 : 半導体BaSi_2を例に Current status and future prospects of semiconducting alkaline-earth-metal silicides

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著者

    • 末益 崇 SUEMASU Takashi
    • 筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻 Institute of Applied Physics, University of Tsukuba
    • 今井 庸二 IMAI Yoji
    • 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 76(3), 264-268, 2007-03-10 

    応用物理学会

参考文献:  18件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018560198
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    8731067
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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