強誘電体薄膜の最近の展開 Recent Development of Ferroelectric Thin Films

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収録刊行物

  • セラミックス

    セラミックス 42(3), 146-151, 2007-03-01

    日本セラミックス協会

参考文献:  13件中 1-13件 を表示

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    NONOMURA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 42, 5918, 2003

    被引用文献1件

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    SHIMIZU M.

    Abs. 15th Int. Symp. On Intergrated Ferroelectrics, 2003, 2003

    被引用文献1件

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    FUJISAWA H.

    Jpn. J. Eur. Ceram. Soc. 24, 1641, 2004

    被引用文献1件

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    YAMADA M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 42, 5222, 2003

    被引用文献1件

  • <no title>

    SAKAMOTO W.

    Jpn. J. Appl. Phys. 42, L1384, 2003

    被引用文献1件

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    WEI Z.

    Jpn. J. Appl. Phys. 40, 5539, 2001

    被引用文献1件

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    WEI Z.

    Jpn. J. Appl. Phys. 41, 6619, 2002

    被引用文献1件

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    YUN K-W

    Appl. Phys. Lett. 83, 3981, 2003

    被引用文献1件

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    MORIOKA H.

    Appl. Phys. Lett. 82, 4761, 2003

    被引用文献10件

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    MORIOKA H.

    Appl. Phys. Lett. 82, 4761, 2003

    被引用文献10件

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    SHIBUYA A.

    Appl. Phys. Lett. 82, 784, 2003

    被引用文献2件

  • <no title>

    SHIBUYA A.

    Appl. Phys. Lett. 83, 1411, 2003

    被引用文献2件

  • Giant Ferroelectric Polarization Beyond 150 μC/cm2 in BiFeO3 Thin Film

    Yun Kwi Young , Ricinschi Dan , Kanashima Takeshi , Noda Minoru , Okuyama Masanori

    Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters 43(5A), L647-L648, 2004-05-01

    応用物理学会 参考文献5件 被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018578624
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00131516
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    0009031X
  • NDL 記事登録ID
    8731365
  • NDL 雑誌分類
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL 請求記号
    Z17-206
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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