Molecular-Scale Transport Phenomena in Thin-Film Deposition

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著者

    • QIU Taiqing
    • Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo
    • AOKI Isao
    • Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo
    • KOTAKE Susumu
    • Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo

収録刊行物

  • Thermal science and engineering

    Thermal science and engineering 3(3), 95-100, 1995-05-01

参考文献:  2件中 1-2件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018603294
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11358679
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09189963
  • データ提供元
    CJP書誌 
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