先端半導体プロセスの数値解析 Numerical Simulation of Czocharalski Processes for Advanced Semiconductor Materials

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収録刊行物

  • 伝熱研究 = News of HTSJ

    伝熱研究 = News of HTSJ 35(138), 73, 1996-07-01

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018605348
  • NII書誌ID(NCID)
    AN0015409X
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    09107851
  • データ提供元
    CJP書誌 
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