シリコンエピ装置におけるウエハ裏面よりの抵抗加熱によるスリップフリー実現 Slipfree Realization by Resistance Heating from Water Backside in Silicon Epitaxial Reactor

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収録刊行物

  • 伝熱研究 = News of HTSJ

    伝熱研究 = News of HTSJ 34(133), 70, 1995-04-01

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    佐藤

    第29回日本伝熱シンポジウム講演論文集, 1992, 1992

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018606480
  • NII書誌ID(NCID)
    AN0015409X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    09107851
  • データ提供元
    CJP書誌 
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