トランスフェリン修飾リポソームによる多剤耐性がん克服機構の解明 : リポソーム化ドキソルビシンの細胞内移行速度におけるトランスフェリン修飾、膜流動性の効果

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著者

収録刊行物

  • 薬剤学 = Journal of Pharmaceutical Science and Technology, Japan  

    薬剤学 = Journal of Pharmaceutical Science and Technology, Japan 63, 98, 2003-03-05 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018621435
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00266708
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    03727629
  • データ提供元
    CJP書誌 
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