電子スピン共鳴法による半導体デバイス作製プロセスの表面反応解析 Surface reaction analysis of semiconductor device fabrication processes using in-situ electron spin resonance

この論文をさがす

著者

    • 山崎 聡 YAMASAKI Satoshi
    • 産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Diamond research center AIST

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 75(12), 1487-1491, 2006-12-10 

    応用物理学会

参考文献:  19件

参考文献を見るにはログインが必要です。ユーザIDをお持ちでない方は新規登録してください。

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018633901
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    8560133
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ