プラズマCVD法により形成される窒素ドープナノダイヤモンド薄膜の構造と電気特性に及ぼす成膜温度の影響

• 堤井 君元

  九州大学

• 武口 浩二

  九州大学

• 池田 知弘

  九州大学

• 劉 沖明

  龍華科技大学

• 丁 鯤

  龍華科技大学

書誌事項

タイトル別名

• Effect of deposition temperature on structural and electrical properties of nitrogen-doped nanocrystalline diamond films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

  電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2006 (84), 1-5, 2006-11-10

キーワード

• マイクロ波プラズマ
• ナノ結晶
• 窒素ドープ
• アモルファスカーボン

詳細情報

• CRID: 1573668925136512128
• NII論文ID: 10018647448
• NII書誌ID: AA11501025
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles