プラズマイオン注入・成膜法を用いて作製したSiC_x膜の特性評価 Properties of SiC_x Film Prepared by Plasma-based Ion Implantation and Deposition

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収録刊行物

  • 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会  

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2006(84), 13-17, 2006-11-10 

参考文献:  4件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018647463
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11501025
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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